high-na1 ASML의 "High-NA EUV" 포토 공정은 현대 반도체 공정에서 가장 중요한 단계라고 할 수 있습니다. 빛을 이용해 웨이퍼에 반도체 회로를 형성하는 과정으로, 4 nm → 3 nm → 2 nm ··· 로 미세화되는 패턴을 구현하기 위해서는 포토 공정이 매우 중요합니다. https://mem5ry.tistory.com/22 반도체 공정(4)- 포토공정 [반도체 8대 공정 ③]이번 글에서는 반도체 8대 공정의 3번째 단계인 포토 공정에 대해서 정리해 보겠습니다.포토 공정은 photolithography라는 용어로 표현할 수 있습니다. 여기서 lithography는 litho(stone) + graphite (write)로,mem5ry.tistory.com 포토 공정에 대한 글에서도 다뤘듯이, 포토 공정에서 중요한 파라미터 중 하나는 re.. 2025. 3. 7. 이전 1 다음
