EUV2 ASML의 "High-NA EUV" 포토 공정은 현대 반도체 공정에서 가장 중요한 단계라고 할 수 있습니다. 빛을 이용해 웨이퍼에 반도체 회로를 형성하는 과정으로, 4 nm → 3 nm → 2 nm ··· 로 미세화되는 패턴을 구현하기 위해서는 포토 공정이 매우 중요합니다. https://mem5ry.tistory.com/22 반도체 공정(4)- 포토공정 [반도체 8대 공정 ③]이번 글에서는 반도체 8대 공정의 3번째 단계인 포토 공정에 대해서 정리해 보겠습니다.포토 공정은 photolithography라는 용어로 표현할 수 있습니다. 여기서 lithography는 litho(stone) + graphite (write)로,mem5ry.tistory.com 포토 공정에 대한 글에서도 다뤘듯이, 포토 공정에서 중요한 파라미터 중 하나는 re.. 2025. 3. 7. 반도체 공정(4)- 포토공정 [반도체 8대 공정 ③] 이번 글에서는 반도체 8대 공정의 3번째 단계인 포토 공정에 대해서 정리해 보겠습니다.포토 공정은 photolithography라는 용어로 표현할 수 있습니다. 여기서 lithography는 litho(stone) + graphite (write)로, 석판 인쇄를 뜻합니다. 따라서 photolithography는 빛(light)을 이용하여 원하는 형태의 패턴을 만드는 공정이라고 할 수 있습니다. 이 photolithography는 원하는 물질을 원하는 위치에 배치하기 위한 공정입니다. 먼저 photolithography가 어떠한 과정을 통해 진행되는지 간단하게 살펴보겠습니다. 1. Photoresist패턴을 형성하고 싶은 물질의 박막 (film)이 기판 위에 올려진 상황을 가정하겠습니다.첫 번째로 진행되.. 2025. 2. 6. 이전 1 다음
